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电子精细化工材料 |
| 超大规模集成电路用光刻胶RZJ4810 |
RZJ4810是适用于使用248nmKrF曝光的新型高分辨率光刻胶。本产品适用于超大规模集成电路制作，8"或12"硅片皆可。最小特征尺寸0.1微米。具有密着性好，显影边缘整齐，抗干法腐蚀能力强等特点。尤其突出的是可以使用同一种光刻胶同时适用于刻线和开孔。
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