专业调研报告 （Professional Investigation and Research) 电子特种气体-三氟化氮行业调研报告 完成时间：2005年9月 报告摘要： 　　电子特种气体是光电子、微电子等领域，特别是超大规模集成电路、液晶显示器件、半导体发光器件和半导体材料制造过程不可缺少的基础性支撑源材料。它的纯度和洁净度直接影响到光电子、微电子元器件的质量、集成度、特定技术指标和成品率，并从根本上制约着电路和器件的精确性和准确性。 　　高纯三氟化氮（NF3），在集成电路、大型屏幕液晶显示屏（TFT-LCD）的生产中，作为清洗剂之用。由于它作为刻蚀剂和清洗剂具有快速、高效等优点，目前无论在世界上，还是我国国内，都有着很大的发展空间。 　　2004年世界NF3的生产能力达到了3640吨左右。具有年产百吨生产能力的生产厂家已有9家。目前我国在NF3气体的年生产能力为300吨左右。而实际生产量在2004年约有30吨。我国在NF3气体的应用市场上，2004年需求约为200吨，并且在今后几年中，其需求量是以50%的年增长率在快速增加。预计在2006年我国市场需求量将达到400吨左右，到2009年达到1000吨左右的需求。为此看出，我国在半导体和TFT液晶方面用高纯NF3气体的市场缺口甚大。 　　本报告从NF3的特性；主要生产工艺技术；主要应用领域；世界市场现状与发展；世界生产现状与发展；国内市场现状与发展；国内生产及研发现状；国内在NF3气体方面的知识产权情况；NF3生产的经济效益与投资风险分析等九个方面进行的调研，并且进行了深入分析。本报告所引入的相关数据，均进行了多方面的核实，具有准确性、权威性。本报告是提供给筹建NF3厂家、了解此市场的经营者、关注此产业发展的机构等的一份必要参考资料。 该报告正文提纲目录： 1．概述 2 NF3的特性 2．1 物理特性 2．2 相关的安全性 2．3 主要性能 3．NF3的主要生产工艺技术 3．1 制备工艺方法的种类 3．2 NF3粗品纯化工艺法的种类 3．3 氟化氢铵熔融盐电解法的工艺过程 3．4 氟化氢铵熔融盐电解法的技术特点 3．5 氟化氢铵熔融盐电解法的关键技术 3．6 三氟化氮安全生产的问题 4．NF3的主要应用领域 4．1 作为氟源在化学激光器中应用 4．2 作为清洗剂、刻蚀剂在半导体及TFT-LCD制造中的应用 4．3 在不同应用领域中应用量的比例 5．世界NF3的市场现状与发展 5．1 世界半导体市场的发展 5．2 世界薄膜液晶显示器市场的发展 5．3 世界NF3市场的发展 6．世界NF3的生产现状与发展 6．1 概述 6．2 美国的NF3生产现状与厂家 6．3 日本的NF3生产现状与厂家 6．4 韩国、台湾地区的NF3生产现状与厂家 7．国内NF3的市场现状与发展 7．1 我国内地NF3在半导体方面的应用市场 7．2 我国内地NF3在液晶显示方面的应用市场 8 国内NF3的生产及研发现状 8．1 国内NF3的生产现状 8．2 国内NF3的主要生产厂家 8．3 国内与NF3气体相关的科研、协会机构 9．我国国内NF3气体知识产权的调查 10．NF3生产的经济效益与投资风险分析 报告图、表目录: 图1 我国内地的IC市场规模和增长变化 图2 我国发展半导体制造企业的现状 图3 我国TFT液晶产业的主要生产厂家分布 表1 电子特种气体的主要品种及分类 表2 NF3物理性质 表3 4N高纯NF3的主要质量指标要求 表4. 世界不同地区集成电路硅片月投片量 表5. 世界前十名的半导体企业的排名 表6 2002年-2008年世界TFT-LCD的产值统计及预测 表7 2002年-2008年世界TFT-LCD的产能统计及预测 表8 世界主要生产厂家NF3的产能统计 表9 世界主要国家、地区在生产NF3能力方面的分布比例情况 表10 日本1999年-2003年的NF3产值统计 表11 对我国在主要电子产品使用液晶显示器的需求量统计 表12 我国主要生产液晶显示器的企业情况 表13 在我国国内与NF3气体业相关的协会机构 表14 我国开展过对NF3气体相关的科研 表15 NF3气体制造工艺及设备相关的中国专利情况调查结果 《电子特种气体-三氟化氮行业调研报告》中文版的价格为3200元。